该晶圆研发厂设在华东的地区的地区，大部分生产的销售8英尺半导晶圆，日访问量废污水排出量约800吨。基于生产的销售全过程中施用大批氢氧化钠参与晶圆蚀刻，促使废污水里面氟化物渗透压超过200-300mg/L，远超的国家排出规范（10mg/L一下）。 废液有效成分及来自 废水处理方法一般来源于四个关键点： 晶圆蚀刻步骤 ：含高密度氟化物（HF）、盐酸及一定量天价属 耐腐蚀机打蜡 （CMP）电镀废水 ：含纳米技术级硅颗粒肥料、可挥发络合剂 机器设备的洗涤焦化废水 ：含异丙醇、氧化还原电位等有机化学物 净化处理加工注意事项 利用"无机化学放置+混疑放置+高度进行过滤"四级除理平台： 五级治理 ：加药氯化钙和氢腐蚀钙，出现氟化钙结晶，氟化物洗去率达85% 下级处置 ：加入PAC（配位聚氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），的还原胶体溶液态感染物 3级除理 ：进行多有机溶剂活力炭过滤板和活力炭粘附，冒水氟化物渗透压稳定可靠在8mg/L下类 关键性机器涵盖：pH会自动设定模式、斜管乳浊液池、板框压滤（废水脱水等）。 结果疗效 产品使用3年监测器数据源显示信息： 氟化物均值渗透压：7.2mg/L（不超过地方标） COD清除率：92% 飞灰含水量率：≤65% 年收售氟化钙副厂品约150吨，控制材料化采用