某半导体技术制造厂公司企业因晶圆的清洗流程引发含氨污废水 ，供水量200吨/天。污废水 中除高锰酸盐指数外还含氟化物和氢化物发生器高价属，正确处理一定的难度大。当地的摆放规则耍求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 材质及收入 晶圆除垢废气（注意渠道）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序污废水 ：含微量分析铜、镍等血本属，pH值下降大 CMP研磨设备废气：含硅颗粒肥料及氯离子 处里生产工艺步骤流程 进行"无机化学放置+膜分离法+折点氯化"搭配工艺技术： 预处置 ：加药系统CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 超滤膜装置 ：洗去0.01μm上文科粒物 反渗原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将高锰酸盐指数浓缩提炼至1000mg/L之上 折点氯化 ：精确度掌握氯加药量，将高锰酸盐指数变为为惰性气体 正离子变换 ：有效保障了高价属符合标准 终究的效果 氯离子安全＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含氧量高于探测限 水使用率达75% 飞灰带来量才能减少40%